250

Дальнейшее развитие флюса F3, по сути это концентрат флюса F3.

Отличается высокой активностью, оставаясь безкислотным. 

Отлично паяет окисленные контакты. 

Сопротивление после высыхания ниже, чем у флюса F3, однако смывать его неоходимо только если это обстоятельство может повлиять на работу схемы.

Сохранена прежняя безопасность для радиоэлементов присущая флюсу F1.  Однако флюс F3 имеет более низкое сопротивление после высыхания: порядка 3 Мом.

Смывать его необходимо только если это обстоятельство сможет повлиять на работу схемы.